机译:抛光和氧等离子体蚀刻后未掺杂的同质外延金刚石膜的缺陷分析和激子扩散
机译:通过氧等离子体刻蚀镜面抛光的金刚石基板,提高同质外延金刚石膜的晶体质量
机译:氧等离子体刻蚀无掺杂和掺硼多晶金刚石膜的耐蚀性研究
机译:通过与金属的扩散反应对金刚石薄膜进行减薄和抛光
机译:多晶和同质外延金刚石膜的热等离子体化学气相沉积(CVD)。
机译:未掺杂和硼掺杂纳米晶金刚石薄膜的摩擦学性质
机译:抛光和氧等离子体刻蚀后未掺杂同质外延金刚石膜的缺陷分析和激子扩散
机译:通过微波等离子体辅助化学气相沉积在高温下高生长率同质外延金刚石膜沉积